本报讯（记者李代姣 杨蕾 通讯员薛华）在4月22日召开的2025年度河北省科学技术奖励大会上，“深紫外光刻胶关键材料制备技术与应用”项目荣获河北省技术发明奖一等奖。

光刻是芯片制造的核心环节，而光刻胶则是其中用于精确转移电路图形的感光材料，其分辨率、纯度与性能直接决定了芯片的制程精度和良品率。深紫外光刻材料主要应用于逻辑芯片、存储芯片及运算芯片制造过程。长期以来，我国这类关键材料高度依赖进口。该项目的技术突破，实现了光刻胶从传统化工材料向超净、高纯电子材料的跨越，为我国芯片产业延链、补链起到关键作用。

“材料的自主可控为我国芯片自立自强提供了基础，促进了从材料端到制程端的全产业链创新发展。”项目负责人，河北科技大学教授、河北凯诺中星科技有限公司董事长孙凤霞在接受采访时表示，这一成果对河北电子信息产业也将起到助推和牵引突破的作用。

“此次获奖，令我和团队备受鼓舞。”孙凤霞说，未来，技术团队将继续努力，力争实现芯片制程材料的完全自主可控，助力锻造自立自强的“中国芯”。